EUV

파장 약 13.5nm의 극자외선을 이용하는 반도체 노광 기술이다. 7nm 이하 초미세 공정에서 회로 패턴을 웨이퍼에 전사하는 핵심 수단으로 쓰인다.

ASML

ASML은 네덜란드에 본사를 둔 반도체 노광 장비 선도 기업으로, 첨단 칩 생산에 필요한 포토리소그래피 시스템을 설계·제조한다. 특히 극자외선(EUV) 리소그래피 분야에서 사실상 독보적인 지위를 가진 기업으로 꼽힌다.